loading...
China bang Mes EUV. FOTO/ DAIly
BEIJING - China telah berhasil membangun prototipe mesin litografi ultraviolet ekstrem (EUV) lokal di Shenzhen dengan bantuan seorang mantan insinyur ASML.
Meskipun mesin EUV tersebut masih belum mampu memproduksi chip, keberhasilan ini memungkinkan China untuk berpotensi memproduksi chip teknologinya sendiri pada tahun 2028 atau 2030.
Pembatasan ekspor perangkat keras oleh AS dan sekutunya telah mendorong China untuk mengembangkan teknologi chipnya sendiri, sehingga Huawei menggunakan mesin ultraviolet dalam (DUV) generasi sebelumnya untuk terus memproduksi chip Kirin.
Mesin tersebut dikembangkan di laboratorium keamanan tinggi di Shenzhen dengan bantuan seorang mantan insinyur ASML, membuka jalan bagi upaya untuk membangun industri chip tanpa bergantung pada negara asing.
Namun, mesin EUV tersebut belum digunakan untuk memproduksi chip.
